快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源，通過極快的升溫速率，將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃，從而消除晶圓或者材料內部的一些缺陷，改善產品性能。

快速退火爐采用先進的微電腦控制系統，采用PID閉環控制溫度，可以達到*的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據用戶工藝需求配置多路氣體。

真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。

加熱室：加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。

進氣系統：真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。

真空系統：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。

溫度控制系統：溫度控制系統由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。

氣冷系統：真空腔室的冷卻是通過進氣系統向腔室內充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。

水冷系統：水冷系統主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。